市售逻辑设备中的ALD / ALE过程
2018年,介绍了新一代逻辑产品,以其10nm代微处理器的英特尔为单行的FinFET晶体管,其次是TSMC和三星,与他们的7个NM节点设备。
在原子层配置/原子层蚀刻(ALD / ALE)过程上的该呈现检查了我们在这些逻辑技术的演变期间看到的一些不同结构,特别是最新的7nm和10nm器件。我们还讨论了通过逆向工程观察到的ALD / ALE技术的几个历史应用,并且我们突出了ALD / ALE进程在高级逻辑设备中的重要性。乐动篮球快讯在许多情况下,如果没有实现ALD / ALE,该技术就无法提前。
拉杰什•克里
高级分析师
Rajesh Krishnamurthy是加拿大渥太华一家逆向工程公司TechInsights的高级分析师。乐动篮球快讯TechInsights分析了广泛的设备,为Rajesh提供了一个独特的概述,使什么技术进入了半导体生产的现实世界。
拉杰什于1998年毕业于加拿大西安大略大学,获材料工程博士学位。Rajesh拥有超过20年的分析师工作经验,专注于半导体工艺开发,以及半导体材料和器件的研发。2006年,他加入了TechInsights团队。
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将于2020年9月9日星期三在…
- 下午2点日本标准时间